SiC 세라믹

SiC 세라믹은 반도체 장비에 점점 더 많이 사용되고 있는데, 이는 주로 가혹한 환경에서도 뛰어난 내구성을 보이기 때문입니다. 온도가 높아지거나 공정이 더욱 격렬해지면 석영이나 실리콘 같은 소재는 한계를 드러내기 시작하는데, 바로 이 지점에서 SiC가 사용됩니다. 산화 또는 확산과 같은 용광로 공정에서 웨이퍼 보트나 패들 같은 부품은 SiC로 제작될 경우 수명이 더 깁니다. SiC 소재는 형태를 잘 유지하고 장시간 가동 후에도 오염 물질 유입이 적습니다. 특히 유지보수가 잦은 경우, 이러한 이유로 석영에서 SiC로의 전환이 많이 이루어집니다.

에칭 공정에서 SiC는 플라즈마에 대한 내구성이 뛰어나기 때문에 흔히 선택됩니다. 실리콘 부품과 비교했을 때 수명 차이는 여러 공정에서 확연히 드러나지만, 정확한 공정에 따라 차이가 있을 수 있습니다. 또한 SiC는 입자 제어에도 도움이 되는데, 노드가 소형화됨에 따라 입자 제어의 민감도가 높아지고 있습니다. MOCVD나 CVD 공정에서는 SiC가 서셉터(susceptor)로도 사용됩니다. 이 경우, 강도보다는 온도 변화에 대한 안정성 유지가 더 중요한 역할을 합니다. 그 외에도 SiC는 챔버 내부 라이너나 샤워헤드 같은 부품, 그리고 때로는 핸들링 부품에도 사용됩니다.